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산 할로젠화물은 대개 산이나 염의 히드록시기(基)가 할로젠 원자로 치환됨으로써 유도된다. 가장 중요한 유기산 할로젠화물은 카복실산과 술폰산에서 유도된 염화물이다. 할로젠화아실이라고 하는 카복실산염화물은 염화술포닐이라고 하는 술폰산염화물보다 일반적으로 반응성이 크다.

할로젠화아실은 유기 합성에서 주로 아실기를 도입하기 위해 사용되는 반응성이 매우 큰 물질이다. 물·암모니아·알코올과 반응하여 각각 카복실산·아마이드·에스터를 생성한다. 대부분의 할로젠화아실은 물에 녹지 않는 액체로서, 자극적인 냄새가 나며 점막(粘膜)을 자극한다. 염화술포닐(RSO₂Cl)은 암모니아와 반응하여 술파제를 포함하는 술폰아마이드를 만든다.

흔한 무기산(無機酸) 할로젠화물로는 클로로황산(ClSO₃H, 전에는 클로로술폰산이라고 했음)과 염화술푸릴(SO₂Cl₂)이 있는데, 이들은 황산(H₂SO₄, 즉 SO₂(OH)₂)의 하이드록실기가 1개 또는 2개의 염소 원자로 치환되어 만들어진 것이다. 또한 아황산의 염화물인 염화티오닐(SOCl₂), 아인산의 염화물인 삼염화인(PCl₃), 인산의 염화물인 옥시염화인(POCl₃, 염화포스포릴이라고도 함) 등도 무기산 할로젠화물이다.