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에칭 etching웨이퍼 프로세스 기술의 하나. 웨이퍼 위에 형성된 막을 모두 제거하는 공정 및 리소그래피 기술로 만들어진 포토레지스트로 덮여 있는 이외의 부분의 막을 선택적으로 제거하는 공정의 총칭(그림 1). 에칭의 방법에는 화학약품에 의한 웨트 에칭(wet etching)과 기체 중에서 행하는 드라이 에칭이 있다. 드라이 에칭은 ...
- 분야 :
- 정보소자/회로
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에칭 etching반도체 소자의 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 회로의 배선 패턴을 형성하여 식각(蝕刻)하는 것. 대규모 집적 회로(LSI) 등 반도체 디바이스를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성/포토리소그래피(photolithorgraphy)/에칭/이온(ion) 주입 등의 요소 기술이 가해지는 요소 프로세스 중의 한 공정이다. 웨...
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렘브란트의 암스테르담 시절지복천년을 믿는 므나쎄 벤 이스라엘을 통해 암스테르담의 유대인 공동체와 관계를 맺고 있었다는 사실을 입증한다. 렘브란트는 1636년에 메나세의 초상화를 에칭으로 제작했다. 렘브란트의 〈제물로 바쳐지는 이삭 Sacrifice of Isaac〉(1635, 상트페테르부르크)에도 그와 똑같은 생생함과 활력이 담겨 있다. 이 그림...
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일본 경제 제재의 핵심, 불화수소란 무엇일까?두께로 얇게 썰어 만든다. 그 다음으로는 웨이퍼를 잘 세척하고 회로를 새겨야 한다. 이 과정을 에치(etch)라고 하는 데, 이때 세척에 쓰이는 가스, 즉 에칭가스가 바로 플루오린화수소이다. 반도체에는 아주 적은 양의 불순물만 있어도 회로가 손상되고 성능이 저하될 수 있기 때문에 순도 99.999% 이상의 초고순도의...
